真空加熱装置
強磁場の中で、各種試料を雰囲気に保ちながら加熱することで、任意の磁場配向材料を製作できる装置です。高分子やゴム等の調整にご使用いただけます。
加熱温度:室温〜500℃
冷却機構:冷却水配管付き
ヒーター:カートリッジヒーター
温度センサー:K熱電対
不活性ガス:ガス接続口付き