X線・加熱・せん断装置


 
このX線・加熱・せん断装置は、試料を任意の温度に加熱し、回転によるせん断応力を加えた状態で広角X線散乱WAXS測定で分子の配向挙動を調べることができます。
装置には平行に置かれた2枚のカプトン板があり、その間に試料をはさんで、下側の板がサーボモーターの駆動で、低速から高速までの任意の回転速度で回ります。
 
 
 
  操作モード
 連続モード:
  速度一定で連続回転します
 ステップモード:
  1ステップだけ実行します
 反復モード:周波数・振幅一定で
  回転方向のみ変わります
せん断速度:0.027〜1570/s
ギャップ設定:10〜3000μm
角速度:0.016〜3.14rad/s
視界半径:5mm
観察窓直径:2.5mm
測定温度範囲:室温〜250℃
上・下石英板:
 サイズφ20mm×2t mm
温度センサ:K熱電対